나노임프린트 리소그래피

나노임프린트 리소그래피(NIL)는 미국이 독점한 레이저 광원을 사용하지 않으면서도 5나노 이하의 반도체 생산에 사용될 수 있는 리소그래피입니다. EUV에 대안으로 처음 등장한 리소그래피로 반도체 생산 비용을 낮출 수 있을지 주목됩니다.